[发明专利]用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备及方法有效
| 申请号： | 201580065529.4 | 申请日： | 2015-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN107003499B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | B·雅各布维茨 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B7/20 | 分类号： | G02B7/20 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述一种用于提供在其中执行光学接触的湿度受控环境的设备及方法。在使用中，创建具有大体上环境温度的环境。通过使惰性气体流过所述环境进一步控制所述环境的湿度水平。在所述湿度受控环境内，多个子组件接着经光学接触以形成光学组件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 提供 其中 执行 光学 接触 湿度 受控 环境 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种方法，其包括：创建具有大体上环境温度的环境；通过使惰性气体流过所述环境来控制所述环境的湿度水平；以及在所述湿度受控环境内光学接触多个子组件以形成光学组件。
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