[发明专利]曝光数据生成方法、多层立体结构的制造方法、曝光数据生成装置、计算机可读存储介质及多层立体结构的制造系统

摘要

本发明涉及多层立体结构的制造，提供能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度且能够抑制曝光位置的位置偏移导致的凹凸面的形状变化的技术。在本发明中，通过对在各层重复进行抗蚀剂层的形成与对该抗蚀剂层进行选择性的曝光而生成的抗蚀剂层叠体进行显影，来制造多层立体结构。因此，根据对于各抗蚀剂层的各曝光图案，能够分别调整凹凸面中的各凹部的深度。另外，在本发明中，曝光数据的曝光区域由凸面区域、凹面区域以及凹面周围区域构成。因此，即使在两层偏移的情况下，也能在对某两个抗蚀剂层进行曝光时，抑制在多层立体结构的凹凸面产生意料之外的台阶差。

主权项

1.一种曝光数据生成方法，在对抗蚀剂层叠体进行显影来制造多层立体结构之前，生成多个曝光数据，所述抗蚀剂层叠体是对在各层重复进行抗蚀剂层的形成以及对所述抗蚀剂层的曝光而生成的层叠体，其特征在于，具备：分割图案生成工序，基于表示在一侧具有凹凸面的所述多层立体结构的设计数据，生成表示在深度方向按所述各层将所述多层立体结构分割时的各图案的多个分割图案；以及数据生成工序，对于所述多个分割图案，将在所述一侧包括凸面的凸面区域、在所述一侧包括凹面的凹面区域以及位于所述凹面区域的周围的凹面周围区域设定为曝光区域，并生成多个曝光数据。