[发明专利]保护电路及保护电路系统有效
申请号: | 201580079394.7 | 申请日: | 2015-04-30 |
公开(公告)号: | CN107534015B | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
发明(设计)人: | 酒井伸次;小田寿志 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H01L21/822 | 分类号: | H01L21/822;H01L27/04;H02H9/02 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本技术涉及能够对主电流的损耗进行抑制,并对与感测区域的确保相伴的制造成本的增加进行抑制的MOSFET的保护电路及具有该保护电路的保护电路系统。保护电路具有:电力用的第一MOSFET(1),主电流流过该第一MOSFET;IGBT(5),其与第一MOSFET并联连接,且来自主电流的分流流过该IGBT;检测用电阻(6),其与IGBT串联连接;以及第一控制电路(4),其基于施加至检测用电阻的电压值,对第一MOSFET的栅极电压进行控制,流过IGBT的分流的电流值相对于流过第一MOSFET的主电流的电流值之比大于或等于0.018%而小于或等于0.022%。 | ||
搜索关键词: | 保护 电路 系统 | ||
【主权项】:
一种保护电路,其具有:电力用的第一MOSFET(1),主电流流过该第一MOSFET(1);IGBT(5),其与所述第一MOSFET(1)并联连接,且来自所述主电流的分流流过该IGBT(5);检测用电阻(6),其与所述IGBT(5)串联连接;以及第一控制电路(4),其基于施加至所述检测用电阻(6)的电压值,对所述第一MOSFET(1)的栅极电压进行控制,流过所述IGBT(5)的所述分流的电流值相对于流过所述第一MOSFET(1)的所述主电流的电流值之比大于或等于0.018%而小于或等于0.022%。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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