[发明专利]太阳能电池单元及太阳能电池单元的制造方法在审

专利信息
申请号: 201580081082.X 申请日: 2015-07-02
公开(公告)号: CN107750399A 公开(公告)日: 2018-03-02
发明(设计)人: 森川浩昭;滨笃郎;幸畑隼人;过能慎太郎 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L31/0687 分类号: H01L31/0687;H01L31/0352;H01L31/08
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 贾成功
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 太阳能电池单元(1)具备p型杂质扩散层(3),其形成于n型单晶硅基板(2)的一面侧;n型杂质扩散层(10),其具有n型的杂质元素以第1浓度扩散的第1n型杂质扩散层(11)和n型的杂质元素以比第1浓度低的第2浓度扩散的第2n型杂质扩散层(12)、形成于n型单晶硅基板(2)的另一面侧、含有比n型单晶硅基板(2)高的浓度的n型的杂质元素;p型杂质扩散层上电极,其形成于p型杂质扩散层(3)上;和n型杂质扩散层上电极,其形成于第1n型杂质扩散层(11)上。第1n型杂质扩散层(11)的表面的n型的杂质元素的浓度为5×1020atoms/cm3以上且2×1021atoms/cm3以下,第2n型杂质扩散层(12)的表面的n型的杂质元素的浓度为5×1019atoms/cm3以上且2×1020atoms/cm3以下。
搜索关键词: 太阳能电池 单元 制造 方法
【主权项】:
一种太阳能电池单元,其特征在于,具备:n型硅基板;p型杂质扩散层,其形成于所述n型硅基板的一面侧、含有p型的杂质元素;n型杂质扩散层,其具有n型的杂质元素以第1浓度扩散的第1n型杂质扩散层和n型的杂质元素以比所述第1浓度低的第2浓度扩散的第2n型杂质扩散层、形成于所述n型硅基板的另一面侧、且以比所述n型硅基板高的浓度含有n型的杂质元素;p型杂质扩散层上电极,其形成于所述p型杂质扩散层上;和n型杂质扩散层上电极,其形成于所述第1n型杂质扩散层上,所述第1n型杂质扩散层的表面的所述n型的杂质元素的浓度为5×1020atoms/cm3以上且2×1021atoms/cm3以下,所述第2n型杂质扩散层的表面的所述n型的杂质元素的浓度为5×1019atoms/cm3以上且2×1020atoms/cm3以下。
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