[发明专利]取样量测系统及其取样量测方法有效
申请号: | 201610006634.7 | 申请日: | 2016-01-06 |
公开(公告)号: | CN106952842B | 公开(公告)日: | 2019-09-27 |
发明(设计)人: | 陈彧 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/66 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 高静;吴敏 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种取样量测系统及其取样量测方法,本发明通过预先设定第一量测方案和第二量测方案,所述第一量测方案中取样率大于所述第二量测方案中的取样率,在判断所述批次在制品是高风险批次在制品,并且判断量测产能充足时,采用取样率较大的第一量测方案,能够及时了解工艺表现,降低产品报废率,提高制造良品率;在判断所述批次在制品不是高风险批次在制品,或者判断量测产能不足时,采用取样率较小的第二量测方案,以缩短产品生产周期。因此本发明可以基于所述批次在制品的量测信息,对所述批次在制品进行工艺风险评估。根据所述批次在制品的工艺风险高低,选择采用不同采样率的量测方案,能够兼顾缩短产品生产周期和及时反馈工艺表现的要求。 | ||
搜索关键词: | 取样 系统 及其 方法 | ||
【主权项】:
1.一种取样量测方法,其特征在于,包括:获取批次在制品,并根据所述批次在制品获取所述批次在制品的量测信息;基于所述批次在制品的量测信息,对所述批次在制品进行工艺风险评估,以判断所述批次在制品是否为高风险批次在制品;在判断所述批次在制品是高风险批次在制品时,判断量测产能是否充足;在判断所述量测产能充足时,采用预设的第一量测方案;在判断所述量测产能不足时,采用预设的第二量测方案;在判断所述批次在制品不是高风险批次在制品时,采用所述第二量测方案;所述第一量测方案中取样率大于所述第二量测方案中的取样率。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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