[发明专利]显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置在审
申请号: | 201610049260.7 | 申请日: | 2016-01-25 |
公开(公告)号: | CN105679767A | 公开(公告)日: | 2016-06-15 |
发明(设计)人: | 梁魁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 汪源;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种显示基板及其制备方法、显示面板和显示装置,所述显示基板包括衬底基板,衬底基板上设置有至少两层折射层,在折射层上设置有栅极,相邻两个折射层之中靠近衬底基板的折射层的折射率小于远离衬底基板的折射层的折射率,折射层的厚度为nλ+λ/4,λ为入射光的波长,n为非负整数。本发明在形成栅极金属之前,首先在衬底基板上形成至少两层折射层,相邻两个折射层之中靠近衬底基板的折射层的折射率小于远离衬底基板的折射层的折射率。本发明根据半波损失理论,通过多层折射层的消光作用以及不同折射层具有的不同折射率产生的全反射,最大程度的减弱了栅极金属的反光强度,提高了显示效果。 | ||
搜索关键词: | 显示 及其 制备 方法 面板 显示装置 | ||
【主权项】:
一种显示基板,其特征在于,包括衬底基板,所述衬底基板上设置有至少两层折射层,在所述折射层上设置有栅极;相邻两个折射层之中靠近衬底基板的折射层的折射率小于远离衬底基板的折射层的折射率,所述折射层的厚度为nλ+λ/4,λ为入射光的波长,n为非负整数。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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