[发明专利]一种防止镜组雾化的曝光装置有效
| 申请号： | 201610049941.3 | 申请日： | 2016-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN105487350B | 公开（公告）日： | 2018-02-13 |
| 发明（设计）人： | 袁夏梁 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种防止镜组雾化的曝光装置，包括容纳有光源和第一反射镜的光学腔室、用于放置基板和光罩的处理腔室、连通所述光学腔室和所述处理腔室的光路腔室以及透光的遮挡层，所述第一反射镜朝向所述基板投射光线，所述遮挡层设置在所述第一反射镜的出射光路上，且位于所述第一反射镜和所述光罩之间。由于光学腔室与处理腔室之间的光路通道上设有透光的遮挡层，可以阻挡处理腔室内挥发的部分气体流向该光学腔室，间接降低光学镜组的雾化，从而实现更好的光学效果，并能提升产能、增强光学仪器的寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 雾化 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种防止镜组雾化的曝光装置，其特征在于，包括容纳有光源(11)和第一反射镜(12)的光学腔室(10)、用于放置基板(1)和光罩(2)的处理腔室(20)、连通所述光学腔室(10)和所述处理腔室(20)的光路腔室(30)以及透光的遮挡层(40)，所述第一反射镜(12)朝向所述基板(1)投射光线，所述遮挡层(40)设置在所述第一反射镜(12)的出射光路上，且位于所述第一反射镜(12)和所述光罩(2)之间，且所述遮挡层(40)的四周背向所述第一反射镜(12)翻折形成一圈翻边。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司，未经深圳市华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610049941.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：曝光机及曝光灯的更换方法
- 下一篇：光催化消解仪
