[发明专利]掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法有效
| 申请号： | 201610064033.1 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105740540B | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 张兴洲 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，包括步骤：步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括分步骤：步骤11、在版图上对数据图形划分成多个区域块；步骤12、根据数据图形的各区域块中实际有无图形得到区域块的1位编码；步骤13、综合数据图形的各区域块的1位编码形成数据图形的编码值；步骤二、在版图中进行特征图形的查找，包括分步骤：步骤21、得到所要查找的特征图形的编码值；步骤22、将特征图形和版图中的各所述数据图形的编码值进行比较；步骤23、根据编码值比较结果确定版图中是否存在特征图形。本发明实现对版图中特征图形的查找自动化，避免版图中特征图形的遗漏，能减少人工检查工作量，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 设计 版图 特征 图形 查找 方法 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版设计中版图的特征图形的查找方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、对版图的数据图形进行编码，包括如下分步骤：步骤11、在版图上对所述数据图形划分成多个区域块；步骤12、根据所述数据图形的各所述区域块中实际有无图形得到对应的所述区域块的1位编码；步骤13、综合所述数据图形的各所述区域块的1位编码形成对应的所述数据图形的编码值；步骤二、在所述版图中进行特征图形的查找，包括如下分步骤：步骤21、采用步骤一的方法得到所要查找的所述特征图形的编码值；步骤22、将所述特征图形的编码值和所述版图中的各所述数据图形的编码值进行比较；步骤23、如果所述版图中存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则编码值相同的所述数据图形和所述特征图形相匹配；如果所述版图中不存在和所述特征图形的编码值相同的所述数据图形的编码值，则所述版图中漏放了所述特征图形。
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