[发明专利]吡唑衍生物的制造方法在审
| 申请号： | 201610065607.7 | 申请日： | 2016-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN105541716A | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 石桥雄一郎;凢洋辅;三宅德显;山崎祐辅;清水翔太 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | C07D231/12 | 分类号： | C07D231/12;C07D231/14;C07C251/30;C07C221/00;C07C225/14;C07C49/255;C07D295/125 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明提供吡唑衍生物的制造方法，具体来说，提供作为药物、农药的中间体有用的吡唑衍生物的新型制造方法、以及前述方法中的新型中间体化合物。一种下式所示的吡唑衍生物(6)的制造方法，使化合物(5)和氧化剂反应。(其中，R1、R2、R3、X1、X2和Z1与专利权利要求和说明书为相同含义。) |
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| 搜索关键词： | 吡唑 衍生物 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种下式(6)所示的吡唑衍生物的制造方法，其特征在于，使下式(5)所示的化合物和氧化剂反应，![]()
其中，R1为氢原子、卤原子或C1～8的卤代烷基，R2为C1～8的烷基、C3～8的环烷基、具有取代基的C3～8的环烷基、芳基、具有取代基的芳基、杂芳基或具有取代基的杂芳基，R3为氢原子、C1～8的烷基或氮保护基，X1和X2彼此独立地为氟原子或氯原子，Z1为氢原子或C1～8的烷基。
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