[发明专利]一种2-羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法在审

专利信息
申请号: 201610079217.5 申请日: 2016-02-04
公开(公告)号: CN105732691A 公开(公告)日: 2016-07-06
发明(设计)人: 王前进;史李刚;张存社;习娟;黄方方 申请(专利权)人: 陕西省石油化工研究设计院
主分类号: C07F7/18 分类号: C07F7/18
代理公司: 西安文盛专利代理有限公司 61100 代理人: 彭冬英
地址: 710054*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及一种2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法,包括以下步骤:将2‑羟基二苯甲酮衍生物、环氧基硅烷和适量溶剂加入到反应釜中,搅拌,待反应物完全溶解后,升温至70~100℃,投入适量的碱催化剂,然后保温度反应3~8h,而后降低反应温度至50℃以下,加入去离子水洗数次,减压蒸馏出溶剂,得到浅黄色至琥珀色粘稠液体即2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷。本发明所采用原材料市场充足,产品成本低,得到的2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷对280nm~400nm的紫外线具有良好吸收作用,并能在温和条件下与金属、玻璃、木材、陶瓷、硅酸盐、塑料等材料的表面进行反应,形成一层具有紫外线吸收和光固化功能的薄膜。
搜索关键词: 一种 羟基 二苯甲酮 衍生物 硅烷 制备 方法
【主权项】:
2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:将2‑羟基二苯甲酮衍生物、环氧基硅烷和溶剂加入到反应釜中,50~500r/min搅拌,待反应物完全溶解后,升温,在70~100℃下投入碱催化剂,然后,保温度反应3~8h;反应结束后,降低反应温度至50℃以下,加入去离子水洗数次,减压蒸馏出溶剂,即得到2‑羟基二苯甲酮衍生物基硅烷。
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