[发明专利]套刻键标、形成套刻键标的方法和测量套刻精度的方法有效
| 申请号： | 201610085710.8 | 申请日： | 2016-02-15 |
| 公开（公告）号： | CN105511235B | 公开（公告）日： | 2017-08-08 |
| 发明（设计）人： | 张玉虎;王军帽;聂彬;岳浩 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 刘鹏,景军平 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例公开了一种套刻键标，其包括至少两个套刻标记，每个所述套刻标记具有彼此中心对称的第一子标记和第二子标记，第一子标记和第二子标记中的每一个包括两个相互垂直且具有公共端的条状图形。所述套刻标记中至少有两个位于不同层。还公开了一种形成套刻键标的方法和测量套刻精度的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 套刻键标 形成 套刻键 标的 方法 测量 精度 | ||
【主权项】：
一种套刻键标，包括：至少两个套刻标记，每个所述套刻标记具有彼此中心对称的第一子标记和第二子标记，第一子标记和第二子标记中的每一个包括两个相互垂直且具有公共端的条状图形，其中，所述套刻标记中至少有两个位于不同层，并且其中，所述套刻标记的第一子标记依次排列以形成第一阶梯式图形，并且所述套刻标记的第二子标记依次排列以形成第二阶梯式图形。
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