[发明专利]一种曝光方法、曝光装置及彩膜基板

摘要

本发明公开了一种曝光方法、曝光装置及彩膜基板，该曝光方法包括在掩膜版的第一侧的两个顶角处分别设置一个第一对位标记，以及在掩膜版的与第一侧相对的第二侧的两个顶角处分别设置一个第二对位标记；利用第一对位标记和第二对位标记在位于衬底基板上方的黑矩阵层上分别形成透过孔的图形，并进行曝光；将衬底基板以第二侧指向第一侧的方向进行移动，控制上一次由第二对位标记形成的两个透过孔与第一对位标记进行对位曝光，并利用第二对位标记形成下一次将进行对位的透过孔的图形；重复移动衬底基板并进行对位曝光，直至在黑矩阵层上形成黑矩阵的图形。该方法不仅可以提高曝光节拍，还可以提高对位精度。

主权项

一种曝光方法，其特征在于，包括：在掩膜版的第一侧的两个顶角处分别设置一个第一对位标记，以及在所述掩膜版的与所述第一侧相对的第二侧的两个顶角处分别设置一个第二对位标记；利用所述第一对位标记和第二对位标记在位于衬底基板上方的黑矩阵层上分别形成透过孔的图形，并对所述黑矩阵层进行曝光；将所述衬底基板以所述第二侧指向第一侧的方向进行移动，控制上一次由所述第二对位标记形成的两个所述透过孔与所述第一对位标记进行对位曝光，并利用所述第二对位标记形成下一次将与所述第一对位标记进行对位的透过孔的图形；重复移动所述衬底基板并进行所述对位曝光，直至在所述黑矩阵层上形成黑矩阵的图形。