[发明专利]一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器有效
| 申请号： | 201610095196.6 | 申请日： | 2016-02-19 |
| 公开（公告）号： | CN105549339B | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 闫春龙;郝明迁;白鑫 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光机及用于曝光机的光学过滤器，用以改善待曝光基板上的膜层曝光后形成的图案的CD值均一性差的问题，进而减少漏光及混色发生的概率，提升产品良率。曝光机，包括第一平面镜和蝇眼，其中，还包括位于所述第一平面镜和所述蝇眼之间的光学过滤器，所述光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度，使得曝光间距越大，照射到待曝光基板上的光的照度越小；所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时，待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 用于 光学 过滤器 | ||
【主权项】：
一种曝光机，包括第一平面镜和蝇眼，其特征在于，还包括位于所述第一平面镜和所述蝇眼之间的光学过滤器，所述光学过滤器用于改变进入所述蝇眼中的光的照度，使得曝光间距越大，照射到待曝光基板上的光的照度越小；所述曝光间距为当掩膜板在重力作用下发生弯曲时，待曝光基板与所述掩膜板之间的距离。
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