[发明专利]曝光装置及曝光方法有效

专利信息
申请号: 201610096405.9 申请日: 2016-02-22
公开(公告)号: CN106098519B 公开(公告)日: 2017-12-01
发明(设计)人: 山田章夫;濑山雅裕;那须野秀树 申请(专利权)人: 爱德万测试株式会社
主分类号: H01J37/244 分类号: H01J37/244;H01J37/317
代理公司: 深圳新创友知识产权代理有限公司44223 代理人: 江耀纯
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明使用带电粒子束使平台的移动误差降低而形成复杂且微细的图案。本发明提供一种曝光装置及曝光方法,该曝光装置具备射束产生部,产生带电粒子束;平台部,搭载样品,并使该样品相对于射束产生部相对性地移动;检测部,对平台部的位置进行检测;预测部,基于平台部的检测位置而生成预测平台部的驱动量所得的预测驱动量;及照射控制部,基于预测驱动量而进行向样品照射带电粒子束的照射控制。
搜索关键词: 曝光 装置 方法
【主权项】:
一种曝光装置,其特征在于具备:射束产生部,产生带电粒子束;平台部,搭载样品,并使该样品相对于所述射束产生部相对性地移动;检测部,对所述平台部的位置进行检测;预测部,基于所述平台部的检测位置而生成预测所述平台部的驱动量所得的预测驱动量;及照射控制部,基于所述预测驱动量而进行对所述样品照射所述带电粒子束的照射控制;所述照射控制部基于所述平台部的移动速度与所述平台部的预测移动速度的差,而控制所述带电粒子束的照射量。
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