[发明专利]制备烷氧基有机硅低聚物的方法有效

专利信息
申请号: 201610111691.1 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN105713033B 公开(公告)日: 2018-08-03
发明(设计)人: 胡庆超;国建强;刘德胜;宋超;周志永;周玲;张学迪;张帅 申请(专利权)人: 山东东岳有机硅材料股份有限公司
主分类号: C07F7/18 分类号: C07F7/18;C07F7/20
代理公司: 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 代理人: 耿霞
地址: 256401 山东省淄博*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于有机硅材料合成领域,特别涉及一种制备烷氧基有机硅低聚物的方法。通过精馏提取有机硅副产物中的低聚物组分,向其加入憎水有机溶剂,再加醇或醚,滴加完毕后,减压下再脱析,升温精馏分离出低沸组分,然后再加中和剂,过滤得到烷氧基有机硅低聚物。本发明制备得到烷氧基取代的有机硅低聚物,化学性质稳定,安全环保,易存放;是一种制备硅油、硅树脂等有机硅材料的优良原料,反应过程中不存在产生大量HCl的问题,非常具有工业利用价值。
搜索关键词: 制备 烷氧基 有机硅 低聚物 方法
【主权项】:
1.一种制备烷氧基有机硅低聚物的方法,其特征在于:通过精馏提取有机硅副产物中的低聚物组分,向其加入憎水有机溶剂,再加醇或醚,滴加完毕后,减压下再脱析,升温精馏 分离出低沸组分,然后再加中和剂,过滤得到烷氧基有机硅低聚物;有机硅副产物中的低聚物组分为:含有至少两个硅氯键,主链含硅硅键;低聚物组分的分子式为MemSi2Cl6‑m,m为2‑4的整数;式中Me为‑CH3;憎水有机溶剂包括环戊烷、环己烷、苯、甲苯或二甲苯中的一种或几种;低聚物组分与憎水有机溶剂的质 量比为1:1‑3;中和剂为碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸钾、碳酸氢钾或碳酸氢铵中的任意一种,中和剂用量为低聚物组分质量的2‑7‰。
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