[发明专利]一种用于大面积放射源均匀性测量的系统与方法

摘要

本发明属于放射性测量技术领域，公开了一种用于大面积放射源均匀性测量的系统与方法。该系统包括均匀性测量仪、多孔屏蔽体及固定支架；所述多孔屏蔽体上设置有若干个用于放射性测量的通孔，多孔屏蔽体的厚度大于被测放射性核素的射程，外观尺寸不小于待测大面积放射源的活性区面积；半导体探测器的探头与多孔屏蔽体上设置的通孔的大小相适应，可以对α或β核素测量；固定支架位于多孔屏蔽体上方，其中心位置处设置有一个孔道，该孔道的四周设置有支撑挡板。该方法是利用该系统并选择合适的测量时间对大面源进行测量。该系统与方法具有测量效率高、适用性好、成本低且能够用于面积大至1000cm²的放射源均匀性测量的有益效果。

主权项

1.一种用于大面积放射源均匀性测量的系统，其特征在于，该系统包括均匀性测量仪、多孔屏蔽体及固定支架，其中均匀性测量仪包括半导体探测器及控制器，对大面积放射源均匀性进行测量时，固定支架、多孔屏蔽体按照从上到下的顺序覆盖于大面积放射源上方；所述多孔屏蔽体上设置有若干个用于放射性测量的通孔，多孔屏蔽体的厚度大于被测放射性核素的射程，外观尺寸不小于待测大面积放射源的活性区面积，材质为不锈钢；半导体探测器的探头为圆形，其大小与多孔屏蔽体上设置的通孔的大小相适应，可以对α或β核素进行自动或手动测量；固定支架位于多孔屏蔽体上方，其中心位置处设置有一个与多孔屏蔽体上设置的通孔相对应的孔道，该孔道的四周设置有支撑挡板，该挡板起到支撑及对周围放射性屏蔽的作用。