[发明专利]一种紫外激光光刻方法有效
| 申请号： | 201610128594.3 | 申请日： | 2016-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN105549342B | 公开（公告）日： | 2019-01-08 |
| 发明（设计）人： | 谭振贤;何键云 | 申请（专利权）人： | 佛山市国星半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 胡枫 |
| 地址： | 528226 广东省佛山市南海区狮*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种紫外激光光刻方法，包括提供待光刻半导体晶圆，对所述半导体晶圆涂覆光刻胶；采用紫外激光发生器对所述半导体晶圆进行曝光，其中，所述紫外激光发生器出射紫外激光的路径上具有聚光镜组，从而可以通过调节紫光激光的能量和大小，进而可以采用尽可能高的能量和尽可能小的激光点进行曝光，以满足更快速、更高精度、更高成像质量的光刻要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 激光 光刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种紫外激光光刻方法，其特征在于，包括：提供待光刻半导体晶圆，对所述半导体晶圆涂覆光刻胶；采用紫外激光发生器对所述半导体晶圆进行曝光，其中，所述紫外激光发生器出射紫外激光的路径上具有聚光镜组，以通过聚光镜组来形成高能量的紫外激光点；所述聚光镜组包括：沿紫外激光发射方向依次设置的一个反射透镜和一个聚光透镜；所述反射透镜靠近紫外激光发射一面为反射镜面，所述反射透镜在紫外激光发生器一侧表面具有透光微孔，所述透光微孔涂有抗反射涂层，其中，反射透镜将经过其自身的紫外光变成平行光束。
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