[发明专利]一种电路板外层对位结构和生成方法有效

专利信息
申请号: 201610137321.5 申请日: 2016-03-10
公开(公告)号: CN105578734B 公开(公告)日: 2019-03-29
发明(设计)人: 罗郁新;刘幸 申请(专利权)人: 广州美维电子有限公司
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K3/46
代理公司: 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 代理人: 秦维
地址: 510663 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种电路板外层对位结构和生成方法,对位结构包括对位圆环,所述对位圆环是在镭射钻孔的工序中以次外层板中设定的圆PAD作为对位标靶从外层板向内层镭射而成的圆形槽位,所述圆形槽位指对位圆环的内圆和外圆之间围成的部分,所述圆PAD亦为外层板中的盲孔生成时的对位标靶;所述对位圆环用于在外层图形转移的工序中作为外层图形转移时的对位标靶。本发明通过在镭射钻孔步骤中镭射出对位圆环作为图形转移时的对位标靶,只需要计算出偏移量进行修正便可使图形转移时能够准确地与盲孔位置对位,有效改善外层图形转移所出现的崩盲孔问题。
搜索关键词: 一种 电路板 外层 对位 结构 生成 方法
【主权项】:
1.一种电路板外层对位结构,其特征在于,包括对位圆环,所述对位圆环是在镭射钻孔的工序中以次外层板中设定的圆PAD作为对位标靶从外层板向内层镭射而成的圆形槽位,所述圆形槽位指对位圆环的内圆和外圆之间围成的部分,所述圆PAD亦为外层板中的盲孔生成时的对位标靶;所述对位圆环用于在外层图形转移的工序中作为外层图形转移时的对位标靶;所述圆形槽位的深度大于外层板的盲孔的深度;所述对位圆环的内圆的直径为1.7mm,外圆的直径为2.3mm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广州美维电子有限公司,未经广州美维电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610137321.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top