[发明专利]曝光机及其操作方法有效
| 申请号： | 201610145776.1 | 申请日： | 2016-03-15 |
| 公开（公告）号： | CN105652604B | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 郑琼;朱晓江 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,侯艺 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种曝光机及其操作方法，所述曝光机用于对基板进行曝光，并包括检测装置，检测基板上的异物；清洁装置，用于清洁异物，并包括能够运动的清洗头；控制系统，被配置为接收检测装置检测到的异物的大小和位置信息；根据异物的大小控制清洗头运动到异物的位置以执行基板的清洁；在清除异物后，控制检测装置对基板进行重新扫描，并控制曝光机对检测合格的基板进行曝光。该曝光机有效地避免了浪费大量的稼动时间和不合格的基板重新投入所需的原材料，从而能够提高生产效率并降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 及其 操作方法 | ||
【主权项】：
一种曝光机，用于对基板进行曝光，其特征在于，所述曝光机包括：检测装置，检测基板上的异物；清洁装置，用于清洁异物，并包括能够运动的清洗头；控制系统，被配置为：接收检测装置检测到的异物的大小和位置信息；根据异物的大小控制清洗头运动到异物的位置以执行基板的清洁；在清除异物后，控制检测装置对基板进行重新扫描，并控制曝光机对检测合格的基板进行曝光；所述清洁装置还包括用于对基板进行清洗的清洗装置和用于对清洗后的基板的清洗异物的位置处进行干燥的干燥装置，其中，所述清洗装置包括所述清洗头。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610145776.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
