[发明专利]一种漫反射性高的反射膜及其制备方法

摘要

本发明涉及一种应用于液晶背光源中的反射膜，特别涉及一种漫反射性高的反射膜及其制备方法。为了解决现有背光模组中容易产生暗影的问题，本发明提供一种漫反射性高的反射膜及其制备方法。所述反射膜包括反射膜基材和涂层，所述反射膜基材具有ABA三层共挤结构，所述涂层在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液包括下述组份：溶剂44‑76％，胶黏剂20‑35％，异氰酸酯交联剂1‑8％，大粒径粒子1‑5％，大粒径粒子的粒径为15‑30μm；小粒径粒子2‑8％，小粒径粒子的粒径为5‑15μm；所述的百分含量为重量百分含量。本发明提供的漫反射性高的反射膜应用于液晶显示背光模组中，避免了使用时暗影的产生。

主权项

1.一种漫反射性高的反射膜，其特征在于，所述反射膜包括反射膜基材和涂层，所述反射膜基材具有ABA三层共挤结构，所述涂层涂布于反射膜基材的一个表面上；所述涂层在涂布之前先配制成涂布液，所述涂布液由下述组份组成：溶剂44‑76％，胶黏剂20‑35％，异氰酸酯交联剂1‑8％，大粒径粒子1‑5％，大粒径粒子的粒径为15‑30μm；小粒径粒子2‑8％，小粒径粒子的粒径为5‑15μm；所述的百分含量为重量百分含量；所述反射膜基材为ABA三层共挤结构；所述反射膜基材的B层由下列组份组成：聚酯69‑92％，无机粒子5‑15％，所述无机粒子的粒径为2‑5μm，有机发泡剂2‑8％，抗静电剂1‑8％；所述反射膜基材的A层由下列组份组成：聚酯80‑95％，二氧化硅粒子5‑20％，所述二氧化硅粒子的粒径为2‑5μm。