[发明专利]一种掩模板的存储方法在审
| 申请号： | 201610163757.1 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN105573051A | 公开（公告）日： | 2016-05-11 |
| 发明（设计）人： | 马兰涛;朱骏;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩模板的存储方法，通过对放置在存储环境中的掩模板表面区域进行紫外光照射，可将掩模板上的有机物结晶激发分解为气体状态，并被存储环境中充入的置换气体排净，从而可有效地降低掩模板的有机物结晶缺陷，保障掩模板的存放和使用安全，并延长掩模板的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模板 存储 方法 | ||
【主权项】：
一种掩模板的存储方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S01：将掩模板放入一存储环境中；步骤S02：对掩模板表面进行紫外光照射；步骤S03：对存储环境进行气体置换。
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