[发明专利]彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置有效

专利信息
申请号: 201610176754.1 申请日: 2016-03-24
公开(公告)号: CN105607344B 公开(公告)日: 2019-06-11
发明(设计)人: 王海军 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13357 分类号: G02F1/13357;G02F1/1335
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 梁恺峥
地址: 518006 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置,其中彩膜基板包括量子点/PFA层及彩色滤光层,其制作方法包括:将量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板上,利用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层,并在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层。因此,本发明通过在彩膜基板上设置一层量子点/PFA层,能够提高液晶显示装置的背光亮度,提高面板的整体色彩饱和度和色域。
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制作方法 液晶 显示装置
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:提供一衬底基板;将量子点与PFA材料混合后涂覆在所述衬底基板上,其中,所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点;采用掩膜对所述量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层,去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵;在所述量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层,其中,所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层,所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方,所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起,其中,所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同,所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1‑0.5um。
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