[发明专利]适于接触式光刻机的分区域曝光装置

摘要

本发明提供一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，包括第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨。本发明的装置结构简单，使用时即不破坏光刻机整机结构和正常的曝光工艺，又能很好的起到遮挡紫外光的作用；且该装置中挡板更换方便，更换时不会破坏装置结构；挡板的尺寸可以根据掩膜架上曝光区域的大小进行设定，灵活性强。

主权项

一种适于接触式光刻机的分区域曝光装置，其特征在于，所述适于接触式光刻机的分区域曝光装置包括：第一滑槽导轨组、第二滑槽导轨组、第一挡板及第二挡板；所述第一滑槽导轨组包括一对平行间隔分布的第一滑槽导轨；所述第一滑槽导轨包括第一导轨本体及设置于所述第一导轨本体上的第一滑槽；所述第一滑槽位于所述第一滑槽导轨的内侧；所述第一滑槽的长度方向与所述第一导轨本体的长度方向一致，且所述第一滑槽自所述第一导轨本体的一端面延伸至另一端面；所述第一挡板位于所述第一滑槽导轨之间，且所述第一挡板的两端分别位于两所述第一滑槽导轨上的所述第一滑槽内，并可沿所述第一滑槽的长度方向滑动；所述第二滑槽导轨组包括一对平行间隔排布的第二滑槽导轨；所述第二滑槽导轨横跨所述第一滑槽导轨组，并固定于所述第一滑槽导轨的表面，且所述第二滑槽导轨与所述第一滑槽导轨相垂直；所述第二滑槽导轨包括第二导轨本体及设置于所述第二导轨本体上的第二滑槽；所述第二滑槽位于所述第二滑槽导轨的内侧；所述第二滑槽的长度方向与所述第二导轨本体的长度方向一致，且所述第二滑槽自所述第二导轨本体的一端面延伸至另一端面；所述第二挡板位于所述第二滑槽导轨之间，且所述第二挡板的两端分别位于两所述第二滑槽导轨上的所述第二滑槽内，并可沿所述第二滑道的长度方向滑动。