[发明专利]掩模板及其制作方法、使用方法以及包括该掩模板的设备有效

专利信息
申请号: 201610198665.7 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN105607377B 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 梁魁;李亚坤;崔晓鹏;陈华斌 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/155 分类号: G02F1/155;G02F1/153;G02F1/161;G02F1/163;G02F1/15
代理公司: 72001 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 李静岚;景军平
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 根据本发明的一方面,提出了一种掩模板,其包括第一透明基板,在所述第一透明基板上依次形成的:第一透明电极、电致变色层和第二透明电极,所述第一透明电极被配置为接受选择性供电以形成不同形状的通电区域。根据本发明的其它方面,提出了用于制造该掩模板的方法和包括该掩模板的设备,以及该掩模板的使用方法。
搜索关键词: 模板 及其 制作方法 使用方法 以及 包括 设备
【主权项】:
1.一种掩模板,包括第一透明基板,以及在所述第一透明基板上依次形成的:第一透明电极、电致变色层和第二透明电极,所述第一透明电极被配置为接受选择性的供电以形成不同形状的通电区域,其中所述第一透明电极由纵横交错的电极线的网格构成,并且该纵横交错的电极线由均匀布置的横向薄膜电极和纵向薄膜电极构成,所述横向薄膜电极与纵向薄膜电极相互绝缘。/n
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