[发明专利]一种两步法制备多孔铱的方法有效

专利信息
申请号: 201610202922.X 申请日: 2016-04-01
公开(公告)号: CN105671514B 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 岳峻逸;刘科学;谭成文;于晓东;苏铁健 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: C23C16/18 分类号: C23C16/18;C23C16/56
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100081 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明属于一种多孔材料的制备领域,具体公开了一种“化学气相沉积”+“高温焙烧”两步法制备多孔铱的方法。第一步是“化学气相沉积的方法制备铱”选用的基体为钼,可以使用共反应气体来提高沉积质量。得到沉积在钼基体上的铱后,使用合适的腐蚀剂腐蚀掉基体,得到金属铱。第二步是“高温焙烧的方法制备多孔铱”对铱在高温、保护气氛下进行高温焙烧,得到多孔铱。由于多孔铱熔点高,脆性大,常规方法制备多孔铱较为困难,本发明采用化学气相沉积后高温焙烧的方式,得到多孔铱,工艺流程较为简单,孔隙率,平均孔径可以控制。
搜索关键词: 一种 步法 制备 多孔 方法
【主权项】:
一种两步法制备多孔铱的方法,其特征在于该方法的步骤为:第一步,化学气相沉积法制备铱,详细步骤为:(1)对钼基体进行清洗并干燥;(2)将SiC砂和Ir(acac)3混合均匀后装入蒸发室;(3)将蒸发室与沉积室通过管路连接,然后将步骤(1)得到的钼基体置于沉积室中,完成系统的组装;(4)将氩气通过管路通入到蒸发室中;(5)将氢气通过管路通入到沉积室中,然后开启感应加热炉对钼基体进行感应加热;(6)开启蒸发室加热装置,对Ir(acac)3进行加热;(7)待蒸发室加热至所需温度稳定后,通过氩气载带将Ir(acac)3气体导入沉积室,沉积反应开始;(8)达到预定沉积时间后,将Ir(acac)3气体导出沉积室,并关闭蒸发室和沉积室中间的高温阀,关闭蒸发室的加热装置,然后对钼基体进行降温,当钼基体温度降至室温后,依次关闭氢气和氩气,将样品从沉积室中取出;(9)利用化学腐蚀的方法腐蚀掉钼基体,然后用去离子水洗涤金属铱并干燥;第二步,高温焙烧制备多孔铱:在管式炉中,对第一步得到的金属铱进行高温焙烧。
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