[发明专利]一种两步法制备多孔铱的方法有效
申请号: | 201610202922.X | 申请日: | 2016-04-01 |
公开(公告)号: | CN105671514B | 公开(公告)日: | 2018-01-09 |
发明(设计)人: | 岳峻逸;刘科学;谭成文;于晓东;苏铁健 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C23C16/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100081 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明属于一种多孔材料的制备领域,具体公开了一种“化学气相沉积”+“高温焙烧”两步法制备多孔铱的方法。第一步是“化学气相沉积的方法制备铱”选用的基体为钼,可以使用共反应气体来提高沉积质量。得到沉积在钼基体上的铱后,使用合适的腐蚀剂腐蚀掉基体,得到金属铱。第二步是“高温焙烧的方法制备多孔铱”对铱在高温、保护气氛下进行高温焙烧,得到多孔铱。由于多孔铱熔点高,脆性大,常规方法制备多孔铱较为困难,本发明采用化学气相沉积后高温焙烧的方式,得到多孔铱,工艺流程较为简单,孔隙率,平均孔径可以控制。 | ||
搜索关键词: | 一种 步法 制备 多孔 方法 | ||
【主权项】:
一种两步法制备多孔铱的方法,其特征在于该方法的步骤为:第一步,化学气相沉积法制备铱,详细步骤为:(1)对钼基体进行清洗并干燥;(2)将SiC砂和Ir(acac)3混合均匀后装入蒸发室;(3)将蒸发室与沉积室通过管路连接,然后将步骤(1)得到的钼基体置于沉积室中,完成系统的组装;(4)将氩气通过管路通入到蒸发室中;(5)将氢气通过管路通入到沉积室中,然后开启感应加热炉对钼基体进行感应加热;(6)开启蒸发室加热装置,对Ir(acac)3进行加热;(7)待蒸发室加热至所需温度稳定后,通过氩气载带将Ir(acac)3气体导入沉积室,沉积反应开始;(8)达到预定沉积时间后,将Ir(acac)3气体导出沉积室,并关闭蒸发室和沉积室中间的高温阀,关闭蒸发室的加热装置,然后对钼基体进行降温,当钼基体温度降至室温后,依次关闭氢气和氩气,将样品从沉积室中取出;(9)利用化学腐蚀的方法腐蚀掉钼基体,然后用去离子水洗涤金属铱并干燥;第二步,高温焙烧制备多孔铱:在管式炉中,对第一步得到的金属铱进行高温焙烧。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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