[发明专利]一种含有邻硝基苄酯光降解基团的表面活性剂及其制备方法有效
| 申请号： | 201610203212.9 | 申请日： | 2016-03-30 |
| 公开（公告）号： | CN105833791B | 公开（公告）日： | 2017-10-24 |
| 发明（设计）人： | 乔卫红;李泉;刘宸宇 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | B01F17/28 | 分类号： | B01F17/28;B01F17/22;C07C235/42;C07C231/12 |
| 代理公司： | 大连东方专利代理有限责任公司21212 | 代理人： | 周媛媛,李馨 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开一种新型光降解表面活性剂及其制备，属于表面活性剂领域。其合成有三步反应①以二乙烯三胺五乙酸为原料乙酸酐做脱水剂吡啶催化脱水生成二乙烯三胺五乙酸双酐；②以邻硝基苄溴衍生物为原料酰氯化后与仲胺反应得中间体对位双长链碳酰胺邻硝基苄溴。③中间体双长链苄溴在溶剂中催化剂催化下与二乙烯三胺五乙酸双酐中间羧基亲核取代得到还有邻硝基苄酯光控基团的表面活性分子。本发明巧妙地利用二乙烯三胺五乙酸脱水成酐，保护了末端四个羧基，选择性地利用中间羧基有机碱DBU催化成酯，制备了邻硝基苄酯光降解表面活性剂。该方法与传统方法相比，缩短了反应流程，极大地提高了效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含有 硝基 光降解 基团 表面活性剂 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种含有邻硝基苄酯光降解基团的表面活性剂，结构如通式Ⅰ，其中，m和n分别独立地选自6、8、10、12或14。
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