[发明专利]阵列基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201610214189.3 申请日: 2016-04-07
公开(公告)号: CN105655360B 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 王丹;马国靖;任锦宇;徐长健;周波 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;G02F1/1333
代理公司: 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 代理人: 许静;黄灿
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置。其中,该阵列基板制作方法包括:在衬底基板上形成钝化层,并形成贯穿所述钝化层的由相互贯通的第一部分和第二部分构成的过孔结构,所述第一部分靠近所述衬底基板,所述第二部分远离所述衬底基板,所述第一部分在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第二部分在所述衬底基板上的正投影区域内;形成取向层。通过本发明,可以在阵列基板上形成厚度更加均匀的配向膜,从而可以避免显示不良现象的产生,达到了提高阵列基板的产品良率的效果。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括衬底基板以及设置于所述衬底基板上的钝化层和取向层,所述钝化层具有贯穿所述钝化层的过孔结构,其特征在于,所述过孔结构包括:/n相互贯通的第一部分和第二部分,所述第一部分靠近所述衬底基板,所述第二部分靠近所述取向层,所述第一部分在所述衬底基板上的正投影完全落入所述第二部分在所述衬底基板上的正投影区域内,所述第二部分被垂直于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为倒等腰梯形,所述第一部分被垂直于所述衬底基板的平面所截得的截面形状为长方形,所述第一部分的高度大于所述第二部分的高度;/n所述第二部分的圆形开口的直径范围为10um~14um,所述第二部分的高度范围为
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