[发明专利]用于对衬底处理系统中的排放气体进行处理的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201610238166.6 申请日: 2010-12-02
公开(公告)号: CN105762097B 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 科林·约翰·迪金森;迈赫兰·莫勒姆;丹尼尔·O·克拉克 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文提供用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的方法和设备。在一些实施例中,一种用于在衬底处理系统的前级管路中对排放气体进行处理的设备包括:等离子体源,联接至处理腔室的前级管路;反应物源,联接至等离子体源的上游的前级管路;和前级管路气体注入套组,联接至前级管路以可控制地将气体输送至前级管路,其中,前级管路注入套组包括:压力调节器,用以设定前级管路气体输送压力设定点;和第一压力计,经联接以监测前级管路的上游的气体的输送压力。
搜索关键词: 用于 衬底 处理 系统 中的 排放 气体 进行 方法 设备
【主权项】:
1.一种用于在衬底处理系统的排放导管中对排放气体进行处理的设备,所述设备包括:等离子体源,联接至处理腔室的排放导管;反应物源,联接至所述等离子体源的上游的所述排放导管;气体注入套组,联接至所述排放导管以可控制地将气体输送至所述排放导管,其中,所述气体注入套组包括:压力调节器,用以设定气体输送压力设定点;流动控制装置,用以在所述压力调节器的所述压力设定点下提供已知的气流;和第一压力计,用以监测所述气体的输送压力;和控制器,联接至来自所述第一压力计的信号以提供反馈回路来控制由所述气体注入套组输送的所述气体的所述压力。
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