[发明专利]一种逆反射标志测量仪有效

专利信息
申请号: 201610251119.5 申请日: 2016-04-21
公开(公告)号: CN105758823B 公开(公告)日: 2019-01-22
发明(设计)人: 杨宗文 申请(专利权)人: 北京中交工程仪器研究所
主分类号: G01N21/47 分类号: G01N21/47
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 102600 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种逆反射标志测量仪,其技术方案要点是包括光学暗箱和光源,光源设置在光学暗箱内,光学暗箱的表面设置有开口,开口处设置有遮挡开口的试样,光学暗箱上设置有调节槽,调节槽内设置有对试样反射的光进行引出的光纤,光纤连接有对光纤引出的光进行检测的光探测器,调节槽处设置有固定组件,光纤通过固定组件与光学暗箱可拆卸固定连接,达到了方便进行多角度测量的目的。
搜索关键词: 一种 逆反 标志 测量仪
【主权项】:
1.一种逆反射标志测量仪,包括光学暗箱(1)和光源,光源设置在光学暗箱(1)内,光学暗箱(1)的表面设置有开口,开口处设置有遮挡开口的试样,其特征在于:光学暗箱(1)上设置有调节槽(6),调节槽(6)内设置有对试样反射的光进行引出的光纤(4),光纤(4)连接有对光纤(4)引出的光进行检测的光探测器,调节槽(6)处设置有固定组件(5),光纤(4)通过固定组件(5)与光学暗箱(1)可拆卸固定连接;光纤(4)为六根,每根光纤(4)对应一个光探测器,每根光纤(4) 分别对应的观测角度为0.2,0.33,0.5,1,1.5和2。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京中交工程仪器研究所,未经北京中交工程仪器研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610251119.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top