[发明专利]激光器的侧边耦合光栅及其制备方法、包含其的激光器有效
申请号: | 201610251536.X | 申请日: | 2016-04-21 |
公开(公告)号: | CN107306011B | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 徐云;宋玉志;宋甲坤;张祖银;陈良惠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/12 | 分类号: | H01S5/12 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种激光器的侧边耦合光栅的制备方法,包括步骤1:刻蚀制备激光器脊条波导,在脊条波导样品上做好电子束光刻对准标记并涂上光刻胶;步骤2:对涂上光刻胶的脊条波导两侧进行初步电子束曝光;步骤3:确定电子束曝光后的光栅掩膜与脊条波导的距离偏差,并在光栅版图中修正这一偏差;步骤4:利用修正的光栅版图对样品进行正式电子束曝光并显影;步骤5:溅射金属并进行剥离,形成侧边耦合光栅。通过该制备方法,能够制备紧靠脊条波导的完美反馈光栅,为激光器的分布反馈选模提供良好的结构基础,并减少了电子束曝光的时间,降低成本。 | ||
搜索关键词: | 激光器 侧边 耦合 光栅 及其 制备 方法 包含 | ||
【主权项】:
一种激光器的侧边耦合光栅的制备方法,其特征在于包括以下步骤:步骤1:刻蚀制备激光器脊条波导,在所述脊条波导上做好电子束光刻对准标记并涂上光刻胶;步骤2:对涂上光刻胶的脊条波导两侧进行初步电子束曝光;步骤3:确定电子束曝光后的光栅掩膜与脊条波导的距离偏差,并在光栅版图中修正这一偏差;步骤4:利用修正的光栅版图对样品进行正式电子束曝光并显影;步骤5:溅射金属并进行剥离,形成侧边耦合光栅。
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