[发明专利]一种用于太阳能电池吸收层的铜铟镓硒薄膜的制备方法有效
申请号: | 201610270035.6 | 申请日: | 2016-04-26 |
公开(公告)号: | CN105762210B | 公开(公告)日: | 2017-07-21 |
发明(设计)人: | 杜祖亮;程轲;韩凯凯 | 申请(专利权)人: | 河南大学 |
主分类号: | H01L31/0392 | 分类号: | H01L31/0392;H01L31/18 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙)41104 | 代理人: | 时立新,周闯 |
地址: | 475001*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本发明属于一种用于太阳能电池吸收层的铜铟镓硒薄膜的制备方法,包括以下步骤①在镀钼的钠钙玻璃基底上制备铜铟镓预置层;②将铜铟镓预置层放入快速退火炉中,25‑30s内升温至280~285℃,保温20‑30min,然后采用固态硒源在560‑565℃下硒化20~30 min,自然冷却至室温,即可得到铜铟镓硒薄膜。本发明利用直流磁控共溅射技术在溅射有钼的玻璃基底上溅射特定比例的CuIn和CuGa合金靶,得到Cu‑In‑Ga的混合金属预制层,通过后期特定工艺条件下的高温快速硒化处理,成功制备了高质量的CIGS吸收层材料;利用该CIGS吸收层材料组配的CIGS薄膜光伏器件,转换效率在11%以上。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 太阳能电池 吸收 铜铟镓硒 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种用于太阳能电池吸收层的铜铟镓硒薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:①在镀钼的钠钙玻璃基底上制备铜铟镓预置层;所述铜铟镓预置层采用直流磁控共溅射法制备,具体过程如下:将镀钼的钠钙玻璃基底放入磁控溅射腔室中,共溅射CuIn合金靶和CuGa合金靶制备铜铟镓预置层,本底真空为4~5×10‑4 Pa,工作压强0.7~0.8 Pa,CuIn合金靶的溅射功率为90 W,CuGa合金靶的溅射功率为20 W,溅射时间60 min;②将铜铟镓预置层放入快速退火炉中,25~30s内升温至280~285℃,保温20~30min,然后采用固态硒源在560~565℃下硒化20~30min,自然冷却至室温,即可得到铜铟镓硒薄膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的