[发明专利]光刻掩膜板及其制作方法、光刻方法有效

专利信息
申请号: 201610329420.3 申请日: 2016-05-18
公开(公告)号: CN105759562B 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 吕振华;陈希;王世君;包智颖;张勇;李月;肖文俊;薛艳娜;姜文博 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F1/40 分类号: G03F1/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 孙慧;景军平
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 提供了一种光刻掩膜板及其制作方法以及使用所述光刻掩膜板的光刻方法。光刻掩膜板包括衬底基板和布置在衬底基板的表面上的掩膜图案,以及布置在该表面上的导电连接图案,其中导电连接图案用于将掩膜图案的分离部分电气连接在一起。
搜索关键词: 光刻 掩膜板 及其 制作方法 方法
【主权项】:
1.一种光刻掩膜板,其特征在于,包括衬底基板和布置在所述衬底基板的表面上的掩膜图案,以及布置在所述表面上的导电连接图案,其中,所述导电连接图案用于将所述掩膜图案的分离部分电气连接在一起,所述导电连接图案包括沿第一方向连续延伸的多条第一导电连接线,以及沿第二方向连续延伸的多条第二导电连接线,所述第一方向与所述第二方向正交,直接相邻的两条第一导电连接线之间的距离小于所述掩膜图案的分离部分在所述第二方向上的最小间距,直接相邻的两条第二导电连接线之间的距离小于所述掩膜图案的分离部分在所述第一方向上的最小间距,所述掩膜图案的分离部分包括沿所述第一方向延伸的第一分离部分和沿所述第二方向延伸并且与所述第一分离部分分离的第二分离部分,至少一条第一导电连接线与所述第一分离部分在所述衬底基板上的正投影重叠,并且至少一条第二导电连接线与所述第二分离部分在所述衬底基板上的正投影重叠。
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