[发明专利]曝光机镜组条纹的改善方法有效
申请号: | 201610504092.6 | 申请日: | 2016-06-29 |
公开(公告)号: | CN105929639B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 丁磊 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供一种曝光机镜组条纹的改善方法,该方法通过设有测量标记图案的测试光罩和选定的两个相邻的投影镜头对基板进行两次曝光,该两次曝光时,通过改变两个投影镜头的相对位置,使得用该两个投影镜头对基板进行第二次曝光时投影到基板上的图像相对于第一次曝光时投影到基板上的图像形成一定的偏差,通过测量形成在基板上两层测量标记之间的实际偏差量,再计算实际偏差量与理论偏差量之间的差值,得出该选定的两投影镜头的接续部偏差量,最后将得到的接续部偏差量输入曝光机,进行接续部偏差量补正,从而改善接续部的特征线宽和重合精度,消除镜组条纹,提升显示质量。 | ||
搜索关键词: | 曝光 机镜组 条纹 改善 方法 | ||
【主权项】:
一种曝光机镜组条纹的改善方法,包括步骤1、提供一曝光机,所述曝光机包括至少两个依次排列的投影镜头(10),其特征在于,还包括如下步骤:步骤2、提供一测试光罩,所述测试光罩上设有至少一个测量标记图案;步骤3、选定所述曝光机中的相邻的两个投影镜头(10);步骤4、提供一基板(20),利用该两个投影镜头(10)和所述测试光罩对所述基板(20)进行第一次曝光,在所述基板(20)上形成第一层测量标记(21);步骤5、调整选定的两个投影镜头(10)之间的相对距离,使得用该两个投影镜头(10)对基板(20)进行曝光时投影到基板(20)上的图像相对于第一次曝光时投影到基板(20)上的图像在x轴方向和y轴方向上的理论偏差量分别为m微米和n微米,其中m和n均为正数;步骤6、利用调整后的两投影镜头(10)和测试光罩,对基板(20)进行第二次曝光,在所述基板(20)上形成第二层测量标记(22);步骤7、测量第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在x轴方向和y轴方向上的实际偏差量;步骤8、计算得到该选定的两投影镜头(10)的接续部偏差量,所述接续部在x轴方向上的偏差量等于第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在x轴方向上的实际偏差量与m微米之间的差值,接续部在y轴方向上的偏差量等于第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在y轴方向上的实际偏差量与n微米之间的差值;步骤9、重复步骤3至步骤8,直至得到所有相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量;步骤10、将得到的各个相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量输入曝光机,以补正各个相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量,改善曝光机镜组条纹。
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