[发明专利]曝光机镜组条纹的改善方法有效

专利信息
申请号: 201610504092.6 申请日: 2016-06-29
公开(公告)号: CN105929639B 公开(公告)日: 2017-12-29
发明(设计)人: 丁磊 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂
地址: 430070 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种曝光机镜组条纹的改善方法,该方法通过设有测量标记图案的测试光罩和选定的两个相邻的投影镜头对基板进行两次曝光,该两次曝光时,通过改变两个投影镜头的相对位置,使得用该两个投影镜头对基板进行第二次曝光时投影到基板上的图像相对于第一次曝光时投影到基板上的图像形成一定的偏差,通过测量形成在基板上两层测量标记之间的实际偏差量,再计算实际偏差量与理论偏差量之间的差值,得出该选定的两投影镜头的接续部偏差量,最后将得到的接续部偏差量输入曝光机,进行接续部偏差量补正,从而改善接续部的特征线宽和重合精度,消除镜组条纹,提升显示质量。
搜索关键词: 曝光 机镜组 条纹 改善 方法
【主权项】:
一种曝光机镜组条纹的改善方法,包括步骤1、提供一曝光机,所述曝光机包括至少两个依次排列的投影镜头(10),其特征在于,还包括如下步骤:步骤2、提供一测试光罩,所述测试光罩上设有至少一个测量标记图案;步骤3、选定所述曝光机中的相邻的两个投影镜头(10);步骤4、提供一基板(20),利用该两个投影镜头(10)和所述测试光罩对所述基板(20)进行第一次曝光,在所述基板(20)上形成第一层测量标记(21);步骤5、调整选定的两个投影镜头(10)之间的相对距离,使得用该两个投影镜头(10)对基板(20)进行曝光时投影到基板(20)上的图像相对于第一次曝光时投影到基板(20)上的图像在x轴方向和y轴方向上的理论偏差量分别为m微米和n微米,其中m和n均为正数;步骤6、利用调整后的两投影镜头(10)和测试光罩,对基板(20)进行第二次曝光,在所述基板(20)上形成第二层测量标记(22);步骤7、测量第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在x轴方向和y轴方向上的实际偏差量;步骤8、计算得到该选定的两投影镜头(10)的接续部偏差量,所述接续部在x轴方向上的偏差量等于第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在x轴方向上的实际偏差量与m微米之间的差值,接续部在y轴方向上的偏差量等于第一层测量标记(21)和第二层测量标记(22)在y轴方向上的实际偏差量与n微米之间的差值;步骤9、重复步骤3至步骤8,直至得到所有相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量;步骤10、将得到的各个相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量输入曝光机,以补正各个相邻的投影镜头(10)的接续部偏差量,改善曝光机镜组条纹。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司,未经武汉华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610504092.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top