[发明专利]一种MEMS器件及其制造方法和电子装置在审
| 申请号： | 201610559619.5 | 申请日： | 2016-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN107619019A | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 王伟;郑超 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/02 | 分类号： | B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人： | 高伟,冯永贞 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种MEMS器件及其制造方法和电子装置。所述方法包括提供第一晶圆，在所述第一晶圆中形成有若干对准标记；提供第二晶圆并将所述第二晶圆与所述第一晶圆相接合；切割所述第二晶圆，以在所述第二晶圆中形成切割道，并在所述切割道中露出所述若干对准标记。本发明的优点在于(1)通过切割方法将所述对准标记完全暴露，很好的将所述对准标记与切割工艺的集成，避免增加额外的步骤，进一步降低工艺成本。(2)提高了产品的良率。(3)避免了对准偏移的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mems 器件 及其 制造 方法 电子 装置 | ||
【主权项】：
一种MEMS器件的制备方法，其特征在于，所述方法包括：提供第一晶圆，在所述第一晶圆中形成有若干对准标记；提供第二晶圆并将所述第二晶圆与所述第一晶圆相接合；切割所述第二晶圆，以在所述第二晶圆中形成切割道，并在所述切割道中露出所述对准标记。
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