[发明专利]一步法湿法黑硅制备以及表面处理方法有效
申请号: | 201610595316.9 | 申请日: | 2016-07-26 |
公开(公告)号: | CN106024988B | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 韩庚欣;丁晓辉;韩冰;徐涛 | 申请(专利权)人: | 南京科乃迪科环保科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0236;C30B33/10 |
代理公司: | 南京苏创专利代理事务所(普通合伙)32273 | 代理人: | 沈振涛 |
地址: | 210000 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供了一步法湿法黑硅制备以及表面处理方法,包括以下步骤将去除表面损伤层后的硅片浸入腐蚀液中反应制得黑硅;所述腐蚀液为含金属离子的浓氢氟酸、氧化剂和高分子聚合物的混合水溶液;将黑硅浸入表面处理腐蚀液中进行表面优化处理,即得亚微米结构的均匀绒面的硅片;其中,所述表面处理腐蚀液为含添加剂的混合酸水溶液。本发明提供的湿法黑硅制备方法工艺简单、成本低廉,经腐蚀处理的黑硅绒面表面均匀且无尖锐边界、反射率在7‑15%,该方法大大提高了硅电池对光的吸收效率,利用该方法制得的黑硅制得的太阳能电池具有较低的电池漏电率、稳定的开路电压、较高的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 一步法 湿法 制备 以及 表面 处理 方法 | ||
【主权项】:
一步法湿法黑硅制备以及表面处理方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将去除表面损伤层后的硅片浸入腐蚀液中反应制得黑硅;所述腐蚀液为含金属离子的浓氢氟酸、氧化剂和高分子聚合物的混合水溶液;所述高分子聚合物为聚丙烯酸、聚乙烯吡咯烷酮、聚D,L‑乳酸中的一种或几种的组合;所述高分子聚合物的分子量为5000‑20000;腐蚀液中,所述高分子聚合物的浓度为5‑35 ppm;(2)将步骤(1)制得的黑硅浸入表面处理腐蚀液中进行表面优化处理,即得亚微米结构的均匀绒面的硅片;其中,所述表面处理腐蚀液为含添加剂的混合酸水溶液;所述添加剂为流平剂;所述流平剂选自丙烯酸共聚物、氟改性丙烯酸共聚物、改性丙烯酸共聚物、聚醚改性聚二甲基矽氧烷、丙烯酸酯聚二甲基矽氧烷共聚物、聚二甲基矽氧烷的一种或几种的组合;所述添加剂的添加量为混合酸水溶液质量的1‑3%;所述添加剂的分子量为1200‑20000。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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