[发明专利]基因测序反应小室及基因测序反应装置在审
申请号: | 201610665692.0 | 申请日: | 2016-08-12 |
公开(公告)号: | CN107723227A | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 盛司潼;祝捷 | 申请(专利权)人: | 广州康昕瑞基因健康科技有限公司 |
主分类号: | C12M1/34 | 分类号: | C12M1/34 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510000 广东省广州市萝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及生化设备技术领域,提供了一种基因测序反应小室,包括相贴合上层基片和下层基片,上层基片与下层基片之间形成反应通道,上层基片或下层基片上设置有试剂入口和试剂出口;上层基片上设置有加热涂层,反应通道投影在上层基片的区域称为投影区域,加热涂层覆盖在投影区域上;加热涂层沿试剂入口与试剂出口的连线方向的两端分别为第一端和第二端;加热涂层还包括第一弯折部和第二弯折部,第一弯折部与第一端相连接,第二弯折部与第二端相连接;第一弯折部上具有第一电接触点,第二弯折部上具有第二电接触点;本发明的有益效果是温度的均匀性更佳,使得反应通道中每个位置的温度相等,提高了测序反应的效率。 | ||
搜索关键词: | 基因 反应 小室 装置 | ||
【主权项】:
一种基因测序反应小室,其特征在于:包括相贴合上层基片和下层基片,所述上层基片与下层基片之间形成用于进行基因测序反应的反应通道;所述上层基片上设置有与反应通道相连通的试剂入口和试剂出口;所述上层基片上设置有用于对反应通道进行加热的加热涂层,所述反应通道投影在上层基片的区域称为投影区域,所述的加热涂层覆盖在所述的投影区域上;所述加热涂层沿试剂入口与试剂出口的连线方向的两端分别为第一端和第二端;所述加热涂层还包括第一弯折部和第二弯折部,所述第一弯折部与所述的第一端相连接,所述第二弯折部与所述第二端相连接;所述第一弯折部上具有第一电接触点,所述第二弯折部上具有第二电接触点,所述第一电接触点和第二电接触点用于实现加热涂层的通电。
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