[发明专利]光致抗蚀剂剥离剂组合物在审
申请号: | 201610685935.7 | 申请日: | 2016-08-18 |
公开(公告)号: | CN106873319A | 公开(公告)日: | 2017-06-20 |
发明(设计)人: | 金俸均;朴弘植;郑在祐;金炳郁;赵泰杓;许舜范;张斗瑛;金东宽 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 |
主分类号: | G03F7/42 | 分类号: | G03F7/42 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 | 代理人: | 孙昌浩,李盛泉 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开一种光致抗蚀剂剥离剂组合物。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物可在避免对金属图案的腐蚀和/或对有机/无机膜的损伤的前提下除去光致抗蚀剂。所述光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物组成为相对于所述剥离剂组合物的总重量而包含15重量%至80重量%的非质子性极性溶剂,包含有N,N‑二甲基丙酰胺;25重量%至80重量%的质子性极性溶剂;1重量%至15重量%的胺系化合物。 | ||
搜索关键词: | 光致抗蚀剂 剥离 组合 | ||
【主权项】:
一种光致抗蚀剂去除用剥离剂组合物,相对于所述剥离剂组合物的总重量而包含:15重量%至80重量%的非质子性极性溶剂,包含有N,N‑二甲基丙酰胺;25重量%至80重量%的质子性极性溶剂;以及1重量%至15重量%的胺系化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司;株式会社东进世美肯,未经三星显示有限公司;株式会社东进世美肯许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610685935.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。