[发明专利]含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法有效
| 申请号： | 201610718266.9 | 申请日： | 2016-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN107287593B | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 金镇成;金炼卓;梁圭亨 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/14 | 分类号： | C23F1/14;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;陈彦 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明提供一种含钼金属膜的蚀刻液组合物及利用其的显示装置用阵列基板的制造方法，所述含钼金属膜的蚀刻液组合物以一定含量包含过氧化氢、氟化合物、唑系化合物、羟胺衍生物、和水。 | ||
| 搜索关键词： | 金属膜 蚀刻 组合 利用 显示装置 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含钼金属膜的蚀刻液组合物，其特征在于，相对于组合物总重量，包含：(A)过氧化氢5～30重量％、(B)氟化合物0.1～2重量％、(C)唑系化合物0.1～1重量％、(D)羟胺衍生物0.1～5重量％、和(E)余量的水，所述羟胺衍生物是选自羟胺、羟胺‑O‑磺酸、硫酸羟胺、N,N‑二乙基羟胺、N‑甲基羟胺、N,N‑二苄基羟胺和N,N,O‑三乙酰基羟胺中的一种以上。
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