[发明专利]高压半导体器件在审

专利信息
申请号: 201610768991.7 申请日: 2016-08-30
公开(公告)号: CN106653849A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 卡西克·穆如克桑;邱奕正;林宏洲;詹智元;陈益民;张震谦;钟久华;杨富智;蔡俊琳 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/40
代理公司: 北京德恒律治知识产权代理有限公司11409 代理人: 章社杲,李伟
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供了半导体器件。在一些实施例中,半导体器件包括晶体管、隔离组件和导电层。晶体管包括源极区域和漏极区域。隔离组件围绕源极区域。导电层被配置为用于漏极区域的互连。导电组件介于导电层与隔离组件之间,被配置为为了隔离组件而屏蔽隔离组件上方的电场。
搜索关键词: 高压 半导体器件
【主权项】:
一种半导体器件,包括:晶体管,包括:源极区域;和漏极区域;隔离组件,围绕所述源极区域;导电层,被配置为用于所述漏极区域的互连;以及导电组件,介于所述导电层与所述隔离组件之间,被配置为为了所述隔离组件而屏蔽所述隔离组件上方的电场。
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