[发明专利]一种WO3包覆TZO粉体的制备及其烧结方法在审
申请号: | 201610817783.1 | 申请日: | 2016-09-07 |
公开(公告)号: | CN107793146A | 公开(公告)日: | 2018-03-13 |
发明(设计)人: | 杨海涛;高玲;尚福亮;朱佐祥;彭伟 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | C04B35/453 | 分类号: | C04B35/453;C04B35/628;C04B35/622;C23C14/34 |
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摘要: | 一种TZO‑WO3包覆粉末的制备及其烧结方法。本发明属于非金属元素及其化合物。本发明公开了一种新的工艺来制备WO3掺杂TZO靶材。本发明的优点在于用一种新的掺杂工艺来代替传统的球磨掺杂,得到充分混合、均匀掺杂的粉体。适用于微量(0.2‑0.5at%)的WO3粉末掺杂,就可制备出致密度99%,强度大于118MPa,电阻率小于5×10‑3Ω·cm的掺杂TZO靶材,这种掺杂TZO靶材,可经济、高效的制成各种复杂形状。TZO薄膜是一种被广泛研究的功能材料。TZO透明导电薄膜性能稳定、制备简单、成本低廉等优势,在光电学性能平板显示领域得到了极其广泛的应用,是新一代透明导电膜,最有可能替代昂贵的ITO,在薄膜太阳能电池和low‑E·玻璃等领域,正显示出巨大的应用前景和市场。 | ||
搜索关键词: | 一种 wo3 tzo 制备 及其 烧结 方法 | ||
【主权项】:
一种新的方法制备WO3包覆TZO(氧化锌钛)粉体,其特征是用偏钨酸铵((NH4)6H2W12O40·xH2O)溶于水的特性,将TZO粉体在偏钨酸铵水溶液中湿磨,干燥后在TZO粉体表面形成分散均匀的偏钨酸铵包覆层,然后通过偏钨酸铵在400‑600℃下的热解在TZO表面形成分散均匀的的WO3包覆层,从而制备出WO3包覆TZO粉体,实现WO3的均匀掺杂。
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