[发明专利]束电流密度分布调整装置和离子注入机有效
| 申请号： | 201610860614.6 | 申请日： | 2016-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN107424892B | 公开（公告）日： | 2019-02-12 |
| 发明（设计）人： | 山元徹朗;萨米·K·哈托 | 申请（专利权）人： | 日新离子机器株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/147 | 分类号： | H01J37/147;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 鲁山;孙志湧 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及束电流密度分布调整装置和离子注入机。提供了一种束电流密度分布调整装置。该装置包括在带状束的长侧方向上的构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在带状束的长侧方向上的束电流密度分布，所述构件对中的每一个构件对的构件被布置成使得带状束在所述构件中间。在带状束的长侧方向上彼此相邻的构件对的相对表面部分地不平行于带状束的行进方向。 | ||
| 搜索关键词： | 电流密度 分布 调整 装置 离子 注入 | ||
【主权项】：
1.一种束电流密度分布调整装置，包括：在带状束的长侧方向上的多个构件对，所述构件对通过使用电场或磁场来调整在所述带状束的长侧方向上的束电流密度分布，所述构件对中的每一对被布置成使得所述带状束在所述构件对中间，其中在所述带状束的长侧方向上彼此相邻的所述构件对的相对表面至少部分地不平行于所述带状束的行进方向。
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