[发明专利]一种光刻胶保湿系统及其保湿方法

摘要

本发明属于半导体处理系统中对半导体工艺用液体处理领域，具体地说是一种光刻胶保湿系统及其保湿方法，供胶部到胶管进口端之间有两个阀，靠近供胶部的是通断回吸阀，靠近胶管出口的是回吸阀，这两个阀的动作由控制部控制；胶管的升降由升降部控制；溶剂盒外有两个液位传感器，监测溶剂盒内液位并控制供液阀通断使溶剂盒内液位处于设定位置；方法为供胶部停止供胶之后，通断回吸阀先动作，停止供胶并进行回吸，结束之后升降部降下，带动胶管出口下降至溶剂盒内溶剂液位以下，回吸阀再进行回吸动作，可在胶管出口处吸入溶剂，这段溶剂可隔离光刻胶与大气，达到保湿的效果。本发明可以自动进行胶嘴的保湿，保湿效果好，且有效节省光刻胶的使用量。

主权项

1.一种光刻胶保湿系统，其特征在于：包括光刻胶罐(1)、供胶部(2)、通断回吸阀(3)、控制部(4)、回吸阀(5)、升降部(6)、胶臂(7)、胶管(8)、胶嘴(9)及溶剂盒(10)，其中胶臂(7)的一端与升降部(6)的输出端连接，另一端安装有胶嘴(9)，所述胶臂(7)上设有至少一根胶管(8)；所述供胶部(2)的进口通过管路与光刻胶罐(1)相连通，出口通过管路与所述胶管(8)的进口端相连通，并在供胶部(2)出口与胶管(8)进口端之间的管路上设有分别与控制部(4)相连的通断回吸阀(3)和回吸阀(5)，所述胶管(8)的出口端安装在胶嘴(9)上，并由该胶嘴(9)向下伸出，所述胶管(8)出口端的下方设有溶剂盒(10)；所述升降部(6)驱动胶臂(7)、胶嘴(9)及胶管(8)升降，通过所述控制部(4)控制通断回吸阀(3)与回吸阀(5)先后动作，完成两次回吸，所述胶管(8)内通过两次回吸在吸入的溶剂与光刻胶之间有溶剂蒸汽，实现对光刻胶的保湿。