[发明专利]MOS管参数退化电路和MOS管参数退化预警电路有效
申请号: | 201610989878.1 | 申请日: | 2016-11-10 |
公开(公告)号: | CN107039299B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 恩云飞;雷登云;陈义强;何春华;黄云 | 申请(专利权)人: | 中国电子产品可靠性与环境试验研究所 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L23/544;G01R31/26 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 刘艳丽 |
地址: | 510610 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种MOS管参数退化电路,包括CMOS反相器、应力施加电路和参数测量电路;CMOS反相器包括第一PMOS管与第一NMOS管;应力施加电路在第一模式选择信号的控制下导通,应力施加电路接收控制信号后对CMOS反相器的第一PMOS管施加负栅压偏置应力或者正栅压偏置应力;参数测量电路在第二模式选择信号的控制下导通;参数测量电路接收输入信号,将输入信号输出至CMOS反相器的输入端;第一模式选择信号与第二模式选择信号为互补信号;本发明可以提高MOS管参数退化测试结果的准确性。此外,本发明还涉及一种MOS管参数退化预警电路,可以准确分析NBTI效应对PMOS管器件参数的影响。 | ||
搜索关键词: | mos 参数 退化 电路 预警 | ||
【主权项】:
1.一种MOS管参数退化电路,其特征在于,包括:CMOS反相器、应力施加电路和参数测量电路;所述CMOS反相器包括第一PMOS管与第一NMOS管;所述第一PMOS管的栅极与所述第一NMOS管的栅极连接,作为所述CMOS反相器的输入端;所述第一PMOS管的漏极与所述第一NMOS管的漏极连接,作为所述CMOS反相器的输出端;所述第一PMOS管的源极接电源,所述第一NMOS管的源极接地;所述CMOS反相器的输入端分别与所述应力施加电路的输出端、所述参数测量电路的输出端连接;所述应力施加电路在第一模式选择信号的控制下导通,所述应力施加电路接收控制信号后对所述CMOS反相器的第一PMOS管施加负栅压偏置应力或者正栅压偏置应力;所述参数测量电路在第二模式选择信号的控制下导通,所述参数测量电路接收输入信号,将所述输入信号输出至所述CMOS反相器的输入端,所述CMOS反相器的输出端输出与所述输入信号反相的输出信号;所述第一模式选择信号与所述第二模式选择信号为互补信号;所述输入信号为低电平信号时,所述第一PMOS管导通,所述第一NMOS管截止,所述CMOS反相器的输出端输出高电平信号;所述输入信号为高电平信号时,所述第一PMOS管截止,所述第一NMOS管导通,所述CMOS反相器的输出端输出低电平信号。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造