[发明专利]清洗液和通过使用其制造集成电路器件的方法有效
| 申请号： | 201610997545.3 | 申请日： | 2016-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN106909032B | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 金珠英;朴贞珠;朴珍;罗惠燮 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/00;C11D11/00;C11D1/66;H01L21/311 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 金拟粲 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开清洗液和通过使用其制造集成电路器件的方法。所述清洗液包括表面活性剂和去离子水。所述表面活性剂包括具有支化结构的化合物，所述具有支化结构的化合物包括包含疏水性基团的主链和多个从所述主链支化且具有至少一个亲水性官能团的侧链。所述制造集成电路器件的方法包括：形成光刻胶图案，随后将所述清洗液施加至所述光刻胶图案上。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 通过 使用 制造 集成电路 器件 方法 | ||
【主权项】：
制造集成电路器件的方法，所述方法包括：在基底上形成光刻胶膜；使所述光刻胶膜暴露于光；通过使暴露于光的所述光刻胶膜显影而形成光刻胶图案；和通过使用清洗液清洗所述光刻胶图案，所述清洗液包括表面活性剂，所述表面活性剂包括具有支化结构的化合物，所述具有支化结构的化合物包括包含疏水性基团的主链和多个从所述主链支化且具有至少一个亲水性官能团的侧链。
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