[发明专利]一种基片的表面光刻和湿法刻蚀方法有效
| 申请号： | 201611019099.5 | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN106773537B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 亢喆;温涛;邱国臣 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人： | 于金平 |
| 地址： | 100015*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基片的表面光刻和湿法刻蚀方法。该方法包括以下步骤：在设有多个粘片槽的基板上涂第一光刻胶，将多个基片逐片放置在涂有第一光刻胶的各粘片槽内，将压板覆盖在所述基板上，并进行第一次固化处理，在经过第一次固化处理后的基板表面涂第二光刻胶，并进行第二次固化处理；利用光刻板对经过第二次固化处理后的基片进行逐片曝光，直到所述基板上的基片全部曝光完毕；将曝光后的基板进行显影和湿法刻蚀。借助于本发明的技术方案，可以大幅提高小尺寸基片光刻工艺的效率，同时也能够保证光刻图形的完整性和湿法刻蚀工艺的均匀性，有效的提高了小尺寸基片图形加工的效率和产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 湿法刻蚀 基板 固化处理 光刻胶 尺寸基片 曝光 粘片 逐片 基板表面涂 光刻工艺 光刻图形 图形加工 一次固化 光刻板 均匀性 显影 压板 覆盖 保证 | ||
【主权项】：
1.一种基片的表面光刻和湿法刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：在设有多个粘片槽的基板上涂第一光刻胶，将多个基片逐片放置在涂有第一光刻胶的各粘片槽内，将压板覆盖在所述基板上，并进行第一次固化处理，在经过第一次固化处理后的基板表面涂第二光刻胶，并进行第二次固化处理；利用光刻板对经过第二次固化处理后的基片进行逐片曝光，直到所述基板上的基片全部曝光完毕；将曝光后的基板进行显影和湿法刻蚀。
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