[发明专利]蒸镀设备有效
| 申请号： | 201611020039.5 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN106637087B | 公开（公告）日： | 2019-05-17 |
| 发明（设计）人： | 刘耀阳;徐健 | 申请（专利权）人： | 上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/04 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆;胡彬 |
| 地址： | 201201 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例公开了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括：蒸镀腔室，以及掩膜版支撑线圈，所述掩膜版支撑线圈至少包括相对设置的第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈之间包括掩膜版设置区域，所述第一线圈和所述第二线圈上分别通入第一电流和第二电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度均匀。本发明实施例通过利用掩膜版支撑线圈在掩膜版设置区域内形成磁场强度均匀的磁场，解决了现有的蒸镀设备中掩膜版因中央区域受力不平衡易发生形变，同时本发明解决了掩膜版在竖直方向上和水平方向上存在的受力问题，避免了掩膜版在定位过程中的受损以及PS柱的擦伤。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 蒸镀设备 磁场 设置区域 受力 支撑 定位过程 相对设置 蒸镀腔室 中央区域 擦伤 形变 竖直 受损 | ||
【主权项】：
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：蒸镀腔室，以及掩膜版支撑线圈，所述掩膜版支撑线圈至少包括相对设置的第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈之间包括掩膜版设置区域，所述第一线圈和所述第二线圈上分别通入第一电流和第二电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度均匀；所述蒸镀设备还包括至少一组掩膜版搬运线圈；所述掩膜版搬运线圈包括相对设置的第三线圈和第四线圈，所述第三线圈和所述第四线圈上分别通入第三电流和第四电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度梯度均匀。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司，未经上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201611020039.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
