[发明专利]放射成像方法及其系统有效
| 申请号： | 201611020809.6 | 申请日： | 2016-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN108078580B | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 吴明烨;金燕南;布莱恩·爱德华·内特;杰德·道格拉斯·帕克 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;A61B6/06 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种放射成像方法，包括以下步骤，通过辐射源放射波束到物体上；通过探测器检测穿过所述物体的所述波束，并输出投射数据；获得无物体时的散射强度；获得有物体时的散射透射率；基于无物体时的所述散射强度和有物体时的所述散射透射率，计算有物体时的所述散射强度；基于有物体时的所述散射强度校正所述投射数据；及使用所述经校正的投射数据生成图像。 | ||
| 搜索关键词： | 放射 成像 方法 及其 系统 | ||
【主权项】：
1.一种放射成像方法，其特征在于，其包括：通过辐射源放射波束到物体上；通过探测器检测穿过所述物体的所述波束，并输出投射数据；获得无物体时的散射强度；获得有物体时的散射透射率；基于无物体时的所述散射强度和有物体时的所述散射透射率，计算有物体时的所述散射强度；基于有物体时的所述散射强度校正所述投射数据；及使用所述经校正的投射数据生成图像。
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