[发明专利]双面光刻装置以及双面光刻装置中掩膜与工件的对准方法有效
| 申请号： | 201611040713.6 | 申请日： | 2016-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107436538B | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 河东和彦;屋宜健勇 | 申请（专利权）人： | 倍科有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人： | 郁旦蓉 |
| 地址： | 日本国长野县诹访郡富士*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 能够在不移动和不转动工件的情况下，将第一掩膜与第二掩膜、第一掩膜以及第二掩膜与工件进行对准。【解决手段】具有使第一掩膜M1可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第一掩膜台100；以及使第二掩膜M2可沿xy平面移动的同时沿xy平面转动的第二掩膜台200，其中，第二掩膜台200能够在第一掩膜台100上除第一掩膜台100之外沿xy平面移动的同时沿xy平面转动，并且,当第一掩膜台100沿xy平面移动和转动时，随第一掩膜台100一同沿xy平面移动和转。 | ||
| 搜索关键词： | 双面 光刻 装置 以及 中掩膜 工件 对准 方法 | ||
【主权项】：
1.一种双面光刻装置，将作为光刻对象的工件的第一面通过第一掩膜进行光刻，将与该第一面相反侧的第二面通过第二掩膜进行光刻，其特征在于，在将与所述第一面以及所述第二面相平行的面定为包含有垂直相交的x轴以及y轴的xy平面时，包括：第一掩膜台，使所述第一掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动；以及第二掩膜台，使所述第二掩膜可沿所述xy平面移动的同时可沿所述xy平面转动，其中，所述第二掩膜台安装在所述第一掩膜台上，并且能够在该第一掩膜台上除该第一掩膜台之外沿所述xy平面移动的同时沿所述xy平面转动，当所述第一掩膜台沿所述xy平面移动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向移动相同的量，当所述第一掩膜台沿所述xy平面转动时，随该第一掩膜台一同在所述xy平面上以相同方向转动相同的量。
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