[发明专利]半导体器件有效
申请号: | 201611062755.X | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN107039424B | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 高镛璿;朴相真;赵学柱;朴炳哉;韩政男 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/04 | 分类号: | H01L27/04 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 翟然 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 半导体器件可以包括:在第一方向上彼此间隔开的成对的有源图案;在交叉第一方向的第二方向上交叉所述成对的有源图案的成对栅电极;在成对的有源图案的侧壁上的栅间隔物;在成对的栅电极之间位于成对的有源图案上的源极/漏极区;在成对的栅电极之间以及在成对的有源图案之间的间隔物保护图案。间隔物保护图案可以共同连接到栅间隔物。 | ||
搜索关键词: | 半导体器件 | ||
【主权项】:
一种半导体器件,包括:从基板突出的第一有源图案和第二有源图案,所述第一有源图案和所述第二有源图案在第一方向上彼此间隔开;交叉所述第一有源图案和所述第二有源图案的第一栅电极和第二栅电极,所述第一栅电极和所述第二栅电极在交叉所述第一方向的第二方向上彼此间隔开;在所述第一栅电极的侧壁上的第一栅间隔物和在所述第二栅电极的侧壁上的第二栅间隔物;第一源极/漏极区和第二源极/漏极区,在所述第一栅电极和所述第二栅电极之间分别在所述第一有源图案和所述第二有源图案上,所述第一源极/漏极区和所述第二源极/漏极区在所述第一方向上彼此相邻;以及在所述第一有源图案和所述第二有源图案之间以及所述第一栅电极和所述第二栅电极之间的间隔物保护图案,所述间隔物保护图案共同连接到所述第一间隔物和所述第二间隔物并且共同接触所述第一源极/漏极区和所述第二源极/漏极区。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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