[发明专利]一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法有效
申请号: | 201611063550.3 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN106758174B | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
发明(设计)人: | 杨志全;曾海军;张新民 | 申请(专利权)人: | 菏泽天源电子科技股份有限公司 |
主分类号: | D06M11/83 | 分类号: | D06M11/83;C23C14/35;C23C14/20;C09J7/21 |
代理公司: | 济南泉城专利商标事务所 37218 | 代理人: | 张贵宾 |
地址: | 274700 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头,单面涂覆一层热熔胶;将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内,真空室内抽至负压,然后向真空室内通入氩气,采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材,磁控溅射镀膜设备的靶源采用矩形平面磁控靶和同轴圆柱形磁控靶结合,构成圆柱形、平面式磁控溅射靶。本发明在材料未做金属涂层之前表面涂覆一层热熔胶,然后再进行表面金属层的加工,这样织物做完涂层后硬度提高,减少了沉积金属层工序起褶皱的几率,提高了产品的成品率。 | ||
搜索关键词: | 热熔胶 单面涂覆 磁控溅射镀膜设备 屏蔽织物 室内 镀铝 基材 制备 平面式磁控溅射靶 矩形平面磁控靶 圆柱形磁控靶 褶皱 表面金属层 沉积金属层 热熔胶涂布 氩气 表面涂覆 金属涂层 成品率 铝靶材 涂布线 靶源 放卷 负压 刮痕 溅射 涂覆 加工 | ||
【主权项】:
1.一种单面涂覆热熔胶镀铝屏蔽织物的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)将基材在涂布线上放卷经过无刮痕热熔胶涂布头,单面涂覆一层热熔胶,涂布克重10‑20g/m2,涂布速度250‑350m/min;(2)将涂覆有热熔胶的基材放置在真空室内,真空室内抽至负压,然后向真空室内通入氩气,采用磁控溅射镀膜设备溅射铝靶材,溅射区两极之间的电压为300‑500V,直流电流为5‑8A,溅射时间为1‑1.5min;所述磁控溅射镀膜设备的靶源采用矩形平面磁控靶和同轴圆柱形磁控靶结合,构成圆柱形、平面式磁控溅射靶;镀膜前后的收卷和放卷部位安装了可在镀膜机外实现转角控制的分段展平辊;所述镀膜前后的收卷和放卷侧安装有张力传感器和控制器。
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D06 织物等的处理;洗涤;其他类不包括的柔性材料
D06M 对纤维、纱、线、织物、羽毛或由这些材料制成的纤维制品进行D06类内其他类目所不包括的处理
D06M11-00 用无机物或其配合物处理纤维、纱、线、织物或这些材料制成的纤维制品;和机械处理相结合的处理,如丝光
D06M11-01 .用氢、水或重水;用金属氢化物或其配合物;用硼烷、二硼烷、硅烷、二硅烷、膦、二膦、、二、胂、二胂或它们的配合物
D06M11-07 .用卤素;用氢卤酸或其盐,用氧化物或卤素的含氧酸或其盐
D06M11-32 .用氧、臭氧、臭氧化物、氧化物、氢氧化物或过化合物;从具有两性元素—氧键的阴离子衍生的盐
D06M11-51 .用硫、硒、碲、钋或其化合物
D06M11-58 .用氮或其化合物;如硝酸盐
D06M 对纤维、纱、线、织物、羽毛或由这些材料制成的纤维制品进行D06类内其他类目所不包括的处理
D06M11-00 用无机物或其配合物处理纤维、纱、线、织物或这些材料制成的纤维制品;和机械处理相结合的处理,如丝光
D06M11-01 .用氢、水或重水;用金属氢化物或其配合物;用硼烷、二硼烷、硅烷、二硅烷、膦、二膦、、二、胂、二胂或它们的配合物
D06M11-07 .用卤素;用氢卤酸或其盐,用氧化物或卤素的含氧酸或其盐
D06M11-32 .用氧、臭氧、臭氧化物、氧化物、氢氧化物或过化合物;从具有两性元素—氧键的阴离子衍生的盐
D06M11-51 .用硫、硒、碲、钋或其化合物
D06M11-58 .用氮或其化合物;如硝酸盐